企业简介
公司成立于2002年，193nm光刻机的研发已经进入尾声。作为光刻设备工程研究技术中心，863攻关重点单位，任重而道远。光刻机作为芯片产业，液晶面板产业的核心设备，技术含量高，高风险，高科技。
上海微电子装备有限公司的工商信息
- 91310000736664790J
- 91310000736664790J
- 存续（在营、开业、在册）
- 股份有限公司（非上市、国有控股）
- 2002-03-07
- 贺荣明
- 14702.3788万人民币
- 2002-03-07 至 永久
- 上海市工商行政管理局
- 中国（上海）自由贸易试验区张东路1525号
- 半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务，经营本企业自产产品的出口业务和本企业所需的机械设备、零配件、原辅材料的进口业务（但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外）。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
上海微电子装备有限公司的商标信息
| 序号 | 注册号 | 商标 | 商标名 | 申请时间 | 商品服务列表 | 内容 |
| 1 | 6674806 |  |
SMEE | 2008-04-22 | 集成电路；超精密温度控制装置；半导体设备控制软件；光学器械和仪器；半导体设备超精密同步实时控制装置；半导体设备超精密调焦调平测量装置；半导体设备超精密对准装置；半导体设备超精密环境控制装置；半导体设备曝光装置 | 查看详情 |
| 2 | 4289502 |  |
SMEE | 2004-09-28 | 电子工业设备；光学冷加工设备；静电工业设备；半导体设备超精密环境控制系统；半导体设备超精密机械传输系统；半导体设备超精密运动平台；半导体设备超精密调焦调平测量系统；半导体设备超精密同步实时控制系统；光刻机；SMT贴片机 | 查看详情 |
| 3 | 6800600 |  |
上微 | 2008-06-24 | 电子工业设备；光学冷加工设备；静电工业设备；光刻机；先进封装光刻机；半导体设备超精密机械传输装置；半导体设备超精密主动减振装置；硅片包封机；集成电路贴片机 | 查看详情 |
| 4 | 6800597 |  |
上微 | 2008-06-24 | 集成电路；超精密温度控制装置；半导体设备控制软件；光学器械和仪器；半导体设备超精密定位系统；半导体设备超精密同步实时控制系统；半导体设备超精密调焦调平测量系统；半导体设备超精密对准系统；半导体设备超精密环境控制系统；用于半导体设备的光学元件 | 查看详情 |
| 5 | 3959866 |  |
SMEE | 2004-03-16 | 机械安装、保养和修理；计算机硬件的安装、维护和修理；电气设备的安装与修理 | 查看详情 |
| 6 | 3959867 |  |
SMEE | 2004-03-16 | 集成电路；集成电路块；光刻机；SMT贴片机；半导体设备超精密环境控制系统；半导体设备控制软件；半导体设备超精密机械传输系统；半导体设备超精密运动平台；光学器械和仪器；半导体设备超精密同步实时控制系统 | 查看详情 |
| 7 | 3959865 |  |
SMEE | 2004-03-16 | 技术研究；技术项目研究；科研项目研究；机械研究；工业品外观设计；工程；工程绘图；研究与开发(替他人)；质量控制；材料测试 | 查看详情 |
| 8 | 6674809 |  |
SMEE | 2008-04-22 | 机械安装、保养和修理；计算机硬件的安装、维护和修理；电气设备的安装和修理 | 查看详情 |
| 9 | 6674807 |  |
SMEE | 2008-04-22 | 电子工业设备；光学冷加工设备；静电工业设备；光刻机；先进封装光刻机；集成电路贴片机；硅片包封机；半导体设备超精密机械传输装置；半导体设备超精密主动减振装置；半导体设备超精密运动定位装置 | 查看详情 |
| 10 | 6800599 |  |
上微 | 2008-06-24 | 技术研究；技术项目研究；科研项目研究；机械研究；工业品外观设计；工程；工程绘图；研究与开发(替他人)；材料测试 | 查看详情 |
| 11 | 6674808 |  |
SMEE | 材料测试 | 查看详情 |
上海微电子装备有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN105988294A | 一种浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统 | 2016.10.05 | 本发明公开一种浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，包括：液体供给装置，用于在投影物镜及基 |
| 2 | CN106141654A | 一种调节锁紧装置 | 2016.11.23 | 本发明公开一种调节锁紧装置，用于调整微动电机的垂向位置及锁紧，包括：一与该微动电机连接的定位簧片；一 |
| 3 | CN106154761A | 一种杂散光测量装置及测量方法 | 2016.11.23 | 本发明公开一种杂散光测量装置，其特征在于，所述测量装置沿光轴方向依次包括：光源，用于提供照明光束；照 |
| 4 | CN1889567A | 一种中速串行连接总线协议及其总线控制器 | 2007.01.03 | 一种中速串行连接总线协议，包括管理报文和过程数据对象报文，其特征在于：过程数据对象报文采用可编程逻辑 |
| 5 | CN200962499Y | 安装机架或机箱用的钣金框架柜 | 2007.10.17 | 本实用新型涉及安装机架或机箱用的钣金框架柜，包括顶盖、底座、四根立柱；四根立柱的上下两端分别与顶盖、 |
| 6 | CN100456138C | 浸没式光刻机浸液流场维持系统 | 2009.01.28 | 本发明提供一种浸没式光刻机所使用的浸液流场维持系统，该光刻机包括投影物镜、硅片台，以及布置在投影物镜 |
| 7 | TWI534559 | 掩模整形装置、方法及采用其的曝光装置 | 2016.05.21 | 明公开了一种掩模整形装置，包括具有一上表面和一下表面的吸附装置，以及具有一定位面的定位装置，吸附装置 |
| 8 | CN103869625B | 偏振照明装置及偏振照明方法 | 2016.07.06 | 本发明公开了一种偏振照明装置及照明方法，该装置包括沿光轴方向依次设置的光路传输单元、偏振控制单元以及 |
| 9 | CN104076611B | 用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法 | 2016.07.06 | 本发明公开一种用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法，该拼接物镜分布于两列，包括：步骤一、将掩模上第一标 |
| 10 | CN101086627A | 凸点光刻机的曝光方法 | 2007.12.12 | 本发明提供一种凸点光刻机的曝光方法，该方法首先获取前道工序晶圆片信息及曝光场数据，并通过覆盖式优化图 |
| 11 | CN101387761A | 光学系统对心装调的装置和方法 | 2009.03.18 | 本发明提出一种光学系统对心装调的装置和方法，所述光学系统对心装调装置包括自准直显微镜和具有空气轴承的 |
| 12 | CN101221369A | 一种光刻机杂散光的自动测量方法 | 2008.07.16 | 一种光刻机杂散光的自动测量方法，包括如下步骤：将多个镜像焦面检测对准标记曝光到硅片上；对部分已曝光的 |
| 13 | CN101221376A | 基于多周期标记的色动态选择方法 | 2008.07.16 | 本发明公开了一种色动态选择方法，包括：接收多个不同波长光源的各三个周期信号作为对准信号，根据反射信号 |
| 14 | CN100456080C | 一种定偏移平行输出分束器 | 2009.01.28 | 本发明公开了一种定偏移平行输出分束器，至少包括一个入射面、一个出射面、一个分束面和三个反射面，所述分 |
| 15 | CN1888982A | 一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法 | 2007.01.03 | 本发明涉及一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法，通过一专用测量系统，测量专用掩模上专用标记的位 |
| 16 | CN100456136C | 一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法 | 2009.01.28 | 本发明公开了一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法，通过同步总线控制器为所有扫描曝光涉及的控制 |
| 17 | CN101586941A | 一种低非线性误差与低温漂双频激光干涉装置及方法 | 2009.11.25 | 本发明提出一种低非线性误差与低温漂双频激光干涉装置，包括第一偏振分光棱镜；第二偏振分光棱镜，位于所述 |
| 18 | CN100456137C | 光刻机同步时序控制串行数据通讯方法和系统及应用 | 2009.01.28 | 一种光刻机同步时序控制的串行数据通讯系统，同步总线控制器通过同步数据总线实时向工件台运动控制卡、掩膜 |
| 19 | CN1786825A | 一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法 | 2006.06.14 | 本发明公开了一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法，通过同步总线控制器为所有扫描曝光涉及的控制 |
| 20 | CN101221368A | 物面像面位置的实时测校装置以及方法 | 2008.07.16 | 本发明提供一种物面像面位置的实时测校装置以及方法，所述装置包括照明光源系统、投影物镜成像系统、用于支 |
| 21 | CN101221373A | 一种照明均匀性校正装置 | 2008.07.16 | 本发明提供一种照明均匀性校正装置，其设置在掩膜版附近或掩模版的光学共轭面附近，包含若干设置在照明光束 |
| 22 | CN101261450A | 一种零位自动可调的调焦调平测量装置及其使用方法 | 2008.09.10 | 本发明提供了一种零位自动可调的调焦调平测量装置及其使用方法，在调焦调平精测测量装置中增加一组自动可调 |
| 23 | CN101261455A | 一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置及方法 | 2008.09.10 | 一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置和方法，其特点是：装置的运动系统将粗动系统和精动系统分开设计，在 |
| 24 | CN205787592U | 一种汞灯角分布测试装置和一种照明灯室 | 2016.12.07 | 本实用新型公开了一种汞灯角分布测试装置，包括测量模块、位置调整模块和信号控制模块，汞灯设置在所述位置 |
| 25 | CN104076613B | 基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法 | 2016.12.28 | 本发明涉及一种基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法，其结构包括照明系统、用于承载硅片的工件台、用 |
| 26 | CN104423173B | 套刻测量装置和方法 | 2016.09.28 | 本发明公开了一种套刻测量装置和方法，用于检测套刻误差，该装置包括：光源，用于提供照明光束；物镜，用于 |
| 27 | CN101587306A | 光刻技术中对准信号的处理方法 | 2009.11.25 | 本发明公开了一种基于幅值与相位分开探测的对准信号处理方法，该方法对来源于对准标记的粗对准信号进行分段 |
| 28 | CN101634545A | 位置测量装置和方法 | 2010.01.27 | 本发明提出一种位置测量装置和方法，包括光源模块、照明模块、投影光阑、投影光栅、投影成像模块、探测成像 |
| 29 | CN104111594B | 基于信号频率的二维自参考干涉对准系统及对准方法 | 2016.09.28 | 本发明提出一种基于信号频率的二维自参考干涉对准系统，包括：激光光源模块，用于提供所需的照明光束；光学 |
| 30 | CN103973172B | 一种动线圈式磁浮平面电机磁对准系统及其对准方法 | 2016.09.28 | 本发明涉及一种动线圈式磁浮平面电机磁对准系统及其对准方法，该系统包括磁钢阵列、固定工装以及固定于所述 |
| 31 | CN101219539A | 一种抓手角度可调的夹取装置 | 2008.07.16 | 一种抓手角度可调的夹取装置，包括，基板、站立腿、抓手、偏心提升机构、夹紧机构和角度调整机构，其中所述 |
| 32 | CN200961967Y | 一种半导体制冷装置 | 2007.10.17 | 本实用新型的半导体制冷装置包括一个冷却水腔，与冷却水腔相配合的两个导冷板，分别与两个导冷板相配合的两 |
| 33 | CN101000409A | 一种可变倍率投影光学系统 | 2007.07.18 | 本发明提供一种可变倍率投影光学系统，涉及半导体光刻及照相制版等装置。现有的投影光学系统存在工作距离短 |
| 34 | CN105807573A | 用于套刻误差检测的装置和方法 | 2016.07.27 | 本发明公开了一种用于套刻误差检测的装置和方法，该装置包括：光源，用于产生测量光；照明系统，将测量光入 |
| 35 | CN1888999A | 一种提高恒流源电路性能的方法 | 2007.01.03 | 本发明提供了一种提高恒流源电路性能的方法，其特点是：在恒流源电路的参考电源和运算放大器之间增设一减法 |
| 36 | CN200989995Y | 一种光纤连接处功率自动检测装置 | 2007.12.12 | 本实用新型属于功率检测领域，具体公开了一种光刻系统中光纤连接处的激光功率自动检测装置。其设置在光纤与 |
| 37 | CN101587230A | 一种投影物镜 | 2009.11.25 | 本发明提供了一种投影物镜，包括三个凸部和两个腰部，由五个透镜组构成，光焦度分配情况是：正-负-正-负 |
| 38 | CN104142612B | 一种掩膜版回推机构 | 2016.07.06 | 本发明涉及一种掩膜版回推机构，包括旋转机构和推动机构，所述旋转机构包括电机、传动机构以及曲柄连杆机构 |
| 39 | CN100456142C | 一种对准标记及其制造方法 | 2009.01.28 | 本发明提供一种对准标记及其制造方法，主要用于光刻装置的掩模和晶片对准；该对准标记包括第一部分结构和第 |
| 40 | CN101387833A | 投影物镜倍率误差及畸变的检测装置及方法 | 2009.03.18 | 本发明提供一种投影物镜倍率及畸变的检测装置以及方法，首先制备一具有栅格状透光标记的测量掩模版，同时提 |
| 41 | CN101599613A | 预电离与主放电时序控制装置及方法 | 2009.12.09 | 本发明提出一种气体放电激光器预电离与主放电时序控制装置与方法。气体放电激光器预电离与主放电时序控制装 |
| 42 | CN103926797B | 一种用于光刻装置的双面套刻系统及方法 | 2016.07.06 | 本发明公开一种用于光刻装置的双面套刻系统，包括：一照明模块，用于提供辐射束；一支撑结构，用于支撑图案 |
| 43 | CN101329513A | 双扫描式硅片调焦调平测量装置及系统 | 2008.12.24 | 本发明提供一种双扫描式硅片调焦调平测量装置及系统，应用于投影光刻机的调平调焦系统中，所述双扫描式硅片 |
| 44 | CN105700297A | 振幅监测系统、调焦调平装置及离焦量探测方法 | 2016.06.22 | 本发明提供了一种振幅监测系统、调焦调平装置及离焦量探测方法，调整所述扫描反射镜的振幅，采样扫描反射镜 |
| 45 | CN205608392U | 一种气驱动光学元器件调整装置及光刻机 | 2016.09.28 | 本实用新型公开了一种气驱动光学元器件调整装置及光刻机，该调整装置包括：支撑件、气管、气驱动装置及气压 |
| 46 | CN201017175Y | 一种大阻尼精密柔性支撑机构 | 2008.02.06 | 本实用新型提供了一种大阻尼精密柔性支撑机构。其由柔性块本体和大阻尼橡胶体组成，所述柔性块本体靠近上下 |
| 47 | CN1888981A | 光刻投影物镜远心测量方法 | 2007.01.03 | 本发明涉及一种光刻投影物镜远心测量方法，利用一可起到孔径光阑作用的专用远心掩模，并在该远心掩模上设置 |
| 48 | CN105717749A | 基于静电效应的非接触式硅片变形补偿装置及方法 | 2016.06.29 | 本发明公开一种非接触式硅片变形补偿装置，包括：正向气浮单元；所述正向气浮单元包括壳体和凹槽；静电吸附 |
| 49 | CN105717751A | 一种掩模上版装置及校准方法 | 2016.06.29 | 本发明提供一种掩模上版装置，其特征在于，包括：传输机构，用于传输掩模版，所述传输机构包括第一第二机械 |
| 50 | CN104238274B | 浸没式光刻机浸没流场维持装置及方法 | 2016.12.28 | 本发明提供了一种浸没式光刻机浸没流场维持装置及方法，该装置设于浸没头与硅片之间，在浸没头、硅片及浸没 |
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